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【建设项目环评】电子半导体材料用四乙氧基硅烷(TEOS)的研发和产业化项目环境影响评价信息二次公示
  • 发布日期:2018-03-21
  • 信息来源:市环保局
  • 编辑:admin
  • 审核: 李发兵

 电子半导体材料用四乙氧基硅烷(TEOS)的研发和产业化项目环境影响评价信息二次公示

根据《中华人民共和国环境影响评价法》和《环境影响评价公众参与暂行办法》(环发2006[28]号)的有关规定,建设单位湖北晶星科技股份有限公司就“电子半导体材料用四乙氧基硅烷(TEOS)的研发和产业化项目”的环境影响评价工作特向公众公告下列信息:

一、建设项目情况简述
项目名称:电子半导体材料用四乙氧基硅烷(TEOS)的研发和产业化项目

建设单位:湖北晶星科技股份有限公司

建设性质:改扩建

建设地点:随州市经济开发区(十里铺)湖北晶星科技股份有限公司现有厂区内

二、项目概况
电子半导体材料用四乙氧基硅烷(TEOS)的研发和产业化项目位于湖北晶星科技股份有限公司现有厂区内,不新增用地。不新增构筑物,项目设备均为露天设置,主要建设一设备储罐区,项目灌装车间依托厂区现有厂房,项目公用工程依托厂区现有设施。项目总投资3020万元,项目建成后,年生产300吨子级四乙氧基硅烷(TEOS)。

三、项目建设单位基本情况
建设单位:湖北晶星科技股份有限公司

联 系 人:陈建新


四、环评单位
承担评价工作的环境影响评价机构:湖北荆环环保工程技术有限公司

联 系 人:李工

联系电话/传真:0724-2351332

邮箱:jmhbs@vip.163.com

五、建设项目对环境可能造成影响
(1)废气:拟建项目大气污染主要为生产过程中产生的挥发性有机废气。

(2)废水:项目产生的废水主要为生活污水及废气洗涤废水。

(3)声环境:主要来源于真空泵、提纯塔、灌装机等设备。

(4)固体废物:固体废弃物主要生活垃圾、废树脂、提纯废液。

六、预防或者减轻不良环境影响的对策和措施
(1)环境空气污染防治措施

项目产生的废气主要为挥发性有机废气,产生的挥发性有机废气经收集后依托厂区现有废气洗涤塔处理后经25m高排气筒排放,废气排放可满足天津市《工业企业挥发性有机物排放控制标准》(DB12/524-2014)其他行业排放标准限值要求,对大气环境影响较小。

(2)水污染防治措施

本项目废水主要是生活污水和废气洗涤废水,生活污水经一体化污水处理设施处理、废气洗涤废水进入厂区现有生产废水处理设施处理后达《污水综合排放标准》(GB8978-1996)一级标准之后排往随州市城市污水处理厂,经污水处理厂处理之后排往府河,对府河影响较小。

(3)噪声污染防治措施

本项目产生噪声主要为设备噪声,经消声、吸音、隔声等综合措施的防治,本项目边界处的噪声将可达《工业企业厂界环境噪声排放标准》(GB12348-2008)中的3类标准限值。

(4)固体废物污染防治措施

项目营运期间产生的固废主要为生活垃圾、废树脂、提纯废液。生活垃圾集中收集后由环卫部门统一清运,废树脂和提纯废液属于危险废物,交由有危废处理资质的单位处理。项目固体废物处理妥当,不外排,不会对周边环境产生影响。

七、环境影响报告书提出的环境影响评价结论
通过对项目周围的环境现状调查、工程分析和营运后的环境影响预测分析,本评价认为,本项目符合城市总体规划,在项目的实施过程中,建设单位应认真落实污染的各项治理措施,保证环保设施投资到位,严格执行“三同时”制度,加强环保管理,从环保角度论证,该项目的建设是可行的。

八、环境影响报告书的查阅方式和期限
公众可在本公告发布后10个工作日内,到环评单位或建设单位查阅本项目的环评文件初稿。

                                        湖北晶星科技股份有限公司

                                                2018年3月21日

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